一顾所长同意对重光公开全所员工档案，并召开全体员工大会，这让胡一亭感到满意，于是接下来大家继续讨论晶圆厂的设备和214所的技术储备。顾所长身边已经渐渐聚集了一批所里的工程师们，足有十五、六人之多，都好奇地打量着胡一亭和康耀祥，认真地听他们说什么。
康耀祥毫不怯场，站
现
按照计划，他们打算今年年底之前，大概11月12月的样子，就可以开始进行国产设备的8微米os全套工艺的工艺考核，预计半年之内可以见分晓。
到时候咱们国家就算是正式拥有了属于自己的8微米制程全套生产设备和制造工艺了我看这次考核一定能通过原因很简单，目前8微米制程工艺已经
华晶厂目前以8微米制程工艺生产我们重光的1j1芯片，良品率已经超过了70，并且还把一微米制程的游影霸王芯片成功移植到了8微米制程上，达到了60以上的良品率。
所以乐观地说，我国目前基本上是已经掌握了了8微米制程工艺和设备制造的自主技术，唯独欠缺的是8微米制程下的ic设计能力，这方面国内也只有我们重光一家有着深厚的功底和成功经验，毕竟目前可供使用的试验线实
我们重光要保持领先优势，就必须继续
所以胡总和我商量之后，决定把你们214所这条线进行技术改进，打算向中科院光电技术研究所也就是成都光机所下订单，与北都微电子中心同步安装他们的81微米分步重复投影光刻机。”
顾所长闻言赞道“我知道你们重光公司是国内唯一一家有8微米集成电路设计技术的企业，你们能把所里的这个晶圆厂提升到什么程度，我们也很好奇啊，你们打算怎么搞，能说说嘛呵呵呵，要是方便的话。”
214所的工程师们也都点头，很想知道重光打算怎么改造这条线路。
胡一亭见
当然这个花费很大，不过目前我已经有了新物镜的初步设计方案，等我把设计思路大体搞出来以后，就派人去和长光所谈，不管多少钱，总要不惜代价的把东西做出来。
当然，换了物镜之后，良品率肯定是不能保证了，但既然是试验线路，也不
另外提升制程的办法还有很多，比如控制光刻胶的厚度，或者用流明度更高的进口胶代替国产胶，再比如设计更准的步进电机以改善套刻度，或者干脆缩小像场尺寸，等等等等，手段五花八门，反正这里大家都是内行，应该对这些都不陌生吧。”
有工程师道“胡总你年纪轻轻，但一听你说话，我就知道你是内行，真不简单啊你真的才17岁吗”
“哈哈哈”
此言一出，车间走廊里立刻响起了一片善意的笑声。
胡一亭笑道“我是天才嘛，这一点江水书记都承认，你们还信不过我吗我解的庞加莱猜想你们看过吗觉得怎么样”
有工程师道“胡总工你好，我叫奚龙山，我看过你的庞加莱猜想，不过看了一半就看不懂了，很惭愧啊，但我相信你是天才，真的你很了不起”
胡一亭问“奚工你留不留下”
奚龙山道“我本来是想去庐州的，毕竟是省会大城市嘛，但看了你的庞加莱猜想暨几何化猜想的完全证明之后，我还是挺心动的，觉得你们重光是有很强的核心技术的，毕竟你们设计的几款芯片和程控机名气现
胡一亭和康耀祥几乎同时道“欢迎你加入重光”
奚龙山仿佛要考考胡一亭和康耀祥，问道“胡总工，康总工，我们这套光刻机也是成光所的，自从把线宽从3微米调整到了5微米之后，透镜的
听到奚龙山
顾峡生一看这阵仗吓了一跳，心说这不是为难人家嘛，这个胡一亭数学水平再高，也对付不了你们这群术业有专攻的高工啊高级工程师可是副教授级别，研究员级高级工程师是正教授级别。好家伙，这一群人里倒有一半是正教授，剩下一半副教授，你们一人问一个问题，这胡总就是有三头六臂也答不上来吧他虽然是世界级数学天才，有通ic设计，但怎么说也不可能对工艺制程了解的像你们这么深啊
“大家都别为难胡总和康总了，这些技术问题是所有晶圆厂的通病，你们这样问，让康总和胡总怎么回答嘛”
康耀祥也讪讪地笑着，心说这还真不好回答，毕竟每个厂都有自己的工艺，解决问题的办法各不相同，真要笼统的回答，未免要被大家瞧不起，但若不结合具体问题来谈，那这个问题就没了边际，说道明天早上也说不完啊。
正当康耀祥犹豫着怎么说才合适的时候，胡一亭却很认真地开了口。
“这有什么难的，光刻机镜头是个大型组合镜头，光是镜片就有十几二十片，套筒一个接一个，想要完全避免几何畸变是不可能的，这个问题无论哪家光刻机厂商都有。
作为照明源的高压汞灯能量很高，曝光时的快门速度只有零点几秒，自然是会导致镜头组件出现瞬间加热又瞬间冷却的几何畸变，但这些都是工程上的问题，我们做制程的不要去过多的考虑，不要去抱怨机子不如外国人的问题，要是机子和外国人一样好了，还要我们干什么
我们要知道，制程工艺里是允许几何畸变的，甚至要利用几何畸变，首先我们要摸清畸变的像场特征，从而
我就只说这么一个思路吧，再多的我就不说了，都是技术机密。
至于光刻胶残留造成的显影缺陷，那就更容易解决了，我再说一遍我们是搞制程的，不是搞化学的，光刻胶今后再怎么进化，用聚乙烯醇肉桂酸脂也好，环氧橡胶双叠氮也好，酚醛树脂重氮萘脂也好，那都是化工企业的问题，他们厂家怎么改进配方，那都不是我们要关心的问题。
为了彻底脱胶，我的思路是上双层胶，降低胶膜对光源的反射，也就是目前国际上刚提出来的用抗反射剂来解决胶体残留影响曝光的思路，其中一层胶体
好吧，我就说这么多看，至于具体的双胶工艺如何做，那都是技术机密，我不能说。
总之突破这两个工艺之后，制程技术直上50纳米不成问题今后我们重光的制程技术攻关就
要知道，胡一亭
他刚才这番话完全是按照世界制程工艺未来的技术路线
这年头国内的制程工艺比起西方来还差得远，西方对华的技术封锁造成了国内
对于
胡一亭低着头说完之后，抬起头来，见所有人都
以为大家不相信自己的胡一亭开始恼火，扬声大吼道
“怎么啦我说错啦谁不服站出来说说你的解决方案
你们啊图样图森破
我胡一亭是不可能错的
只要你们跟着我干35微米那就是小菜一碟
50纳米指日可待”请牢记